상단메뉴 바로가기 본문 바로가기 본문 하위메뉴 바로가기 하단 바로가기

제품소개

Products Introduction

Bump

※좌, 우로 스와이프하면 내용을 확인할 수 있습니다.

WAFER BUMPING PROCESS
PROCESS BASE METAL APPLICATION CHEMICAL TYPE L(liquid), P(powder) SPEC
WAFER BUMPING
PROCESS
Cu, Ni Surfactant for Copper bump etchant L 고객사 사정에 맞춰 커스터마이즈 가능합니다.
Copper bump etchant L
TiW Alkali type TiW bump etchant L
Ti Acid type Ti bump etchant L
Alkali type Ti bump etchant L
Ni Nickel bump etchant L
Ni-V Nickel-Vanadium alloy bump etchant L
Al Aluminium bump etchant L
Au Gold bump etchant L